本發(fā)明涉及電漿機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種半導(dǎo)體電漿機(jī)。半導(dǎo)體等離子機(jī)也叫等離子刻蝕機(jī)。等離子蝕刻是最常見(jiàn)的干蝕刻形式。其原理是暴露在電子區(qū)的氣體形成等離子體，產(chǎn)生的電離氣體和高能電子組成的氣體被釋放，從而形成等離子體或離子。當(dāng)電離的氣體原子被電場(chǎng)加速時(shí)，它們會(huì)釋放出足夠的力來(lái)緊緊地附著在材料上或蝕刻表面。目前，半導(dǎo)體電漿機(jī)需要在真空環(huán)境下進(jìn)行刻蝕，但現(xiàn)有電漿機(jī)密封效果差，導(dǎo)致空氣中的氧化氣體進(jìn)入電漿機(jī)，導(dǎo)致半導(dǎo)體表面刻蝕不均勻，使用不方便。鑒于此，我們提出一種半導(dǎo)體電漿機(jī)。

本發(fā)明的目的是提供一種半導(dǎo)體等離子電漿機(jī)，以解決上述背景技術(shù)中提出的半導(dǎo)體電漿機(jī)密封效果差的問(wèn)題。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了如下技術(shù)方案：一種半導(dǎo)體電漿機(jī)，包括電漿機(jī)體，所述電漿機(jī)體的正面設(shè)有顯示屏，所述顯示屏下方設(shè)有控制面板，所述電漿機(jī)體的上表面設(shè)有通孔，所述顯示屏一側(cè)的電漿機(jī)體的正面設(shè)有蝕刻室， 通孔與蝕刻室連通，電漿機(jī)體的上表面設(shè)有真空泵。 真空泵通過(guò)第一螺栓與電漿機(jī)體的上表面固定連接；真空泵的輸出端設(shè)有排氣管；排氣管的一端通過(guò)通孔伸入蝕刻室；滾筒安裝在等離子機(jī)體下表面的四個(gè)角上。排氣管與通孔的連接處設(shè)有法蘭，法蘭上設(shè)有多個(gè)第二螺栓，法蘭通過(guò)第二螺栓與電漿機(jī)體的上表面固定連接。法蘭與通孔的連接處設(shè)有墊圈。矩形塞的橫截面尺寸與矩形槽的尺寸相匹配，矩形塞通過(guò)矩形槽與空心密封墊相插配。倉(cāng)門的正面設(shè)有窗戶。門靠近顯示屏的一側(cè)設(shè)有弧形凹槽，電漿機(jī)體的正面與氣缸緊密焊接，氣缸的一端與轉(zhuǎn)軸緊密焊接，轉(zhuǎn)軸上設(shè)有限位器，限位器的一端設(shè)有圓孔，另一端與限位柱緊密焊接。轉(zhuǎn)軸穿過(guò)圓孔，擋塊通過(guò)轉(zhuǎn)軸與氣缸轉(zhuǎn)動(dòng)連接。限位柱通過(guò)弧形槽與倉(cāng)門滑動(dòng)連接?；⌒尾鄣闹行慕嵌仍O(shè)置為90-120度。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：倉(cāng)門關(guān)閉后，通過(guò)轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)限位器，使限位器一端的限位柱滑入弧形槽的另一端，限位柱在蝕刻倉(cāng)的開(kāi)啟位置扣合倉(cāng)門，使限位柱對(duì)倉(cāng)門起到一定的限位作用，從而實(shí)現(xiàn)倉(cāng)門的關(guān)閉；同時(shí)，矩形塞通過(guò)矩形槽與中空密封墊插入配合，提高倉(cāng)門與刻蝕倉(cāng)連接處的密封效果，防止空氣中的氧化氣體進(jìn)入刻蝕倉(cāng)，提高半導(dǎo)體表面的刻蝕均勻性，解決半導(dǎo)體電漿機(jī)密封效果差的問(wèn)題。