在線式等離子去膠機(jī)百科
文章導(dǎo)讀：在線式等離子去膠機(jī)通常也是在真空環(huán)境下，利用射頻或微波等產(chǎn)生高頻電磁場(chǎng)。使通入的反應(yīng)氣體（如氧氣、CF4 等）電離形成等離子體，等離子體中的活性粒子與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，將光刻膠分解為二氧化碳、水等易揮發(fā)物質(zhì)，再通過(guò)真空系統(tǒng)抽走。
在線式等離子去膠機(jī)是一種用于連續(xù)化去除光刻膠等有機(jī)物的設(shè)備，在半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域有著重要應(yīng)用。以下是其相關(guān)介紹：
工作原理
與普通等離子去膠機(jī)類似，在線式等離子去膠機(jī)通常也是在真空環(huán)境下，利用射頻或微波等產(chǎn)生高頻電磁場(chǎng)。使通入的反應(yīng)氣體（如氧氣、CF4 等）電離形成等離子體，等離子體中的活性粒子與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，將光刻膠分解為二氧化碳、水等易揮發(fā)物質(zhì)，再通過(guò)真空系統(tǒng)抽走。不同的是，在線式設(shè)備具有連續(xù)進(jìn)料和出料的功能，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化的連續(xù)生產(chǎn)，提高生產(chǎn)效率。
結(jié)構(gòu)組成
真空傳輸系統(tǒng)：包括真空腔室和傳輸裝置，傳輸裝置用于將待處理的晶圓或工件連續(xù)地送入和送出真空腔室，在傳輸過(guò)程中保持真空環(huán)境，確保等離子體去膠過(guò)程不受外界干擾。
等離子體發(fā)生系統(tǒng)：由射頻或微波發(fā)生器、電極等組成，產(chǎn)生高頻電磁場(chǎng)，使反應(yīng)氣體電離產(chǎn)生等離子體。
氣體供應(yīng)系統(tǒng)：精確控制反應(yīng)氣體的種類、流量和壓力，以滿足不同的去膠工藝需求。
控制系統(tǒng)：實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)去膠過(guò)程的自動(dòng)化控制，包括工藝參數(shù)（如功率、時(shí)間、氣體流量等）的設(shè)定和監(jiān)控，以及設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)的監(jiān)測(cè)和故障報(bào)警等。
技術(shù)參數(shù)
處理速度：通常以每小時(shí)處理的晶圓數(shù)量或工件面積來(lái)衡量，一般在幾十片到上百片晶圓每小時(shí)不等，具體取決于設(shè)備的型號(hào)和工藝要求。
去膠均勻性：要求在整個(gè)晶圓或工件表面的去膠效果均勻一致，通常去膠均勻性可達(dá)到 ±5% 以內(nèi)。
功率范圍：射頻或微波功率一般在幾十瓦到幾千瓦之間可調(diào)，以適應(yīng)不同的去膠工藝和材料要求。
真空度：工作真空度通常在 10?¹ 到 10?³ 帕斯卡的范圍內(nèi)，以保證等離子體的穩(wěn)定產(chǎn)生和反應(yīng)的順利進(jìn)行。
產(chǎn)品特點(diǎn)
高效連續(xù)處理：能夠?qū)崿F(xiàn)晶圓或工件的連續(xù)進(jìn)料和出料，大大提高了去膠效率，適合大規(guī)模生產(chǎn)。
自動(dòng)化程度高：通過(guò)控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)對(duì)工藝參數(shù)的精確控制和設(shè)備的自動(dòng)化運(yùn)行，減少了人為因素的影響，提高了產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性和一致性。
兼容性好：可根據(jù)不同的工藝需求，靈活調(diào)整工藝參數(shù)，適用于多種類型的光刻膠和不同尺寸的晶圓或工件。
清潔環(huán)保：采用干法去膠工藝，無(wú)需使用有害化學(xué)溶劑，減少了環(huán)境污染和對(duì)操作人員的健康危害。
應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造：在芯片制造的光刻工藝后，用于去除晶圓表面的光刻膠，為后續(xù)的刻蝕、離子注入等工藝做準(zhǔn)備。
平板顯示：例如在液晶顯示（LCD）和有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）顯示面板的制造中，去除光刻膠以形成像素電極、薄膜晶體管等結(jié)構(gòu)。
太陽(yáng)能電池：用于太陽(yáng)能電池生產(chǎn)中的光刻膠去除，以及對(duì)硅片表面進(jìn)行預(yù)處理，提高電池的轉(zhuǎn)換效率和性能。
親，如果您對(duì)等離子體表面處理機(jī)有需求或者想了解更多詳細(xì)信息，歡迎點(diǎn)擊普樂(lè)斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國(guó)統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂(lè)斯恭候您的來(lái)電！
與普通等離子去膠機(jī)類似，在線式等離子去膠機(jī)通常也是在真空環(huán)境下，利用射頻或微波等產(chǎn)生高頻電磁場(chǎng)。使通入的反應(yīng)氣體（如氧氣、CF4 等）電離形成等離子體，等離子體中的活性粒子與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，將光刻膠分解為二氧化碳、水等易揮發(fā)物質(zhì)，再通過(guò)真空系統(tǒng)抽走。不同的是，在線式設(shè)備具有連續(xù)進(jìn)料和出料的功能，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化的連續(xù)生產(chǎn)，提高生產(chǎn)效率。
結(jié)構(gòu)組成
真空傳輸系統(tǒng)：包括真空腔室和傳輸裝置，傳輸裝置用于將待處理的晶圓或工件連續(xù)地送入和送出真空腔室，在傳輸過(guò)程中保持真空環(huán)境，確保等離子體去膠過(guò)程不受外界干擾。
等離子體發(fā)生系統(tǒng)：由射頻或微波發(fā)生器、電極等組成，產(chǎn)生高頻電磁場(chǎng)，使反應(yīng)氣體電離產(chǎn)生等離子體。
氣體供應(yīng)系統(tǒng)：精確控制反應(yīng)氣體的種類、流量和壓力，以滿足不同的去膠工藝需求。
控制系統(tǒng)：實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)去膠過(guò)程的自動(dòng)化控制，包括工藝參數(shù)（如功率、時(shí)間、氣體流量等）的設(shè)定和監(jiān)控，以及設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)的監(jiān)測(cè)和故障報(bào)警等。
處理速度：通常以每小時(shí)處理的晶圓數(shù)量或工件面積來(lái)衡量，一般在幾十片到上百片晶圓每小時(shí)不等，具體取決于設(shè)備的型號(hào)和工藝要求。
去膠均勻性：要求在整個(gè)晶圓或工件表面的去膠效果均勻一致，通常去膠均勻性可達(dá)到 ±5% 以內(nèi)。
功率范圍：射頻或微波功率一般在幾十瓦到幾千瓦之間可調(diào)，以適應(yīng)不同的去膠工藝和材料要求。
真空度：工作真空度通常在 10?¹ 到 10?³ 帕斯卡的范圍內(nèi)，以保證等離子體的穩(wěn)定產(chǎn)生和反應(yīng)的順利進(jìn)行。
產(chǎn)品特點(diǎn)
高效連續(xù)處理：能夠?qū)崿F(xiàn)晶圓或工件的連續(xù)進(jìn)料和出料，大大提高了去膠效率，適合大規(guī)模生產(chǎn)。
自動(dòng)化程度高：通過(guò)控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)對(duì)工藝參數(shù)的精確控制和設(shè)備的自動(dòng)化運(yùn)行，減少了人為因素的影響，提高了產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性和一致性。
兼容性好：可根據(jù)不同的工藝需求，靈活調(diào)整工藝參數(shù)，適用于多種類型的光刻膠和不同尺寸的晶圓或工件。
清潔環(huán)保：采用干法去膠工藝，無(wú)需使用有害化學(xué)溶劑，減少了環(huán)境污染和對(duì)操作人員的健康危害。
半導(dǎo)體制造：在芯片制造的光刻工藝后，用于去除晶圓表面的光刻膠，為后續(xù)的刻蝕、離子注入等工藝做準(zhǔn)備。
平板顯示：例如在液晶顯示（LCD）和有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）顯示面板的制造中，去除光刻膠以形成像素電極、薄膜晶體管等結(jié)構(gòu)。
太陽(yáng)能電池：用于太陽(yáng)能電池生產(chǎn)中的光刻膠去除，以及對(duì)硅片表面進(jìn)行預(yù)處理，提高電池的轉(zhuǎn)換效率和性能。
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