臺積電新研究，讓1nm芯片成為可能，普樂斯等離子體清洗機(jī)觀察
文章導(dǎo)讀：普樂斯等離子體清洗機(jī)行業(yè)觀察，臺積電和交大強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)手，研發(fā)出全球厚度僅有0.7納米的超薄二維半導(dǎo)體材料絕緣體，有望借此進(jìn)一步研發(fā)出2納米乃至1納米的電晶體通道，論文這個月成功登上國際期刊自然期刊（nature）。
普樂斯等離子體清洗機(jī)行業(yè)觀察，臺積電和交大強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)手，研發(fā)出全球厚度僅有0.7納米的超薄二維半導(dǎo)體材料絕緣體，有望借此進(jìn)一步研發(fā)出2納米乃至1納米的電晶體通道，論文這個月成功登上國際期刊自然期刊（nature）。
國立交通大學(xué)電子物理系張文豪教授研究團(tuán)隊在科技部長支持下，與臺積電合作，合作研究研發(fā)出全球zui薄、厚度僅0.7納米、大面積晶圓尺寸的二維半導(dǎo)體材料絕緣層，臺積電表示，關(guān)鍵所在是單晶氮化硼技術(shù)的重大突破，今后有望通過這項技術(shù)，進(jìn)一步研發(fā)出2納米乃至1納米的電晶體通道。
現(xiàn)階段臺積電正在推動3納米的量產(chǎn)計劃，指的就是電晶體通道尺寸，通道做的越小，電晶體尺寸就能越小，而在持續(xù)微縮的過程中，電子就會變得越來越難傳輸，導(dǎo)致電晶體無法有效工作，現(xiàn)階段二維半導(dǎo)體材料是如今科學(xué)界認(rèn)為zui有可能解決瓶頸的方案的一種。
二維半導(dǎo)體材料特性就是很薄，平面結(jié)構(gòu)僅有一兩個原子等級的厚度，但也因而傳輸中的電子容易受環(huán)境影響，因此要絕緣層來阻絕干擾，現(xiàn)階段半導(dǎo)體使用的絕緣層多半是氧化物，通常做到5納米以下就非常困難，無法小于1納米，團(tuán)隊研發(fā)出的單晶氮化硼生長技術(shù)，成功達(dá)成0.7納米厚度的絕緣層。
臺積電技術(shù)主任陳則安，為清大化學(xué)系博士，他表示，單晶指的是單一的晶體整齊排列，單晶對於將來半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)比較有幫助，因為假設(shè)絕緣層不是單晶結(jié)構(gòu)，中間會出現(xiàn)很多缺陷，電阻經(jīng)過的時候可能被缺陷影響，導(dǎo)致效能變差，實驗也已證實會有影響，將來還要更多研究。
臺積電處長李連忠曾經(jīng)是中研院原分所研究員，他表示，臺積電研究團(tuán)隊經(jīng)過基礎(chǔ)研究后，尋找問題和突破可能性，跟交大化學(xué)氣相沉積實驗室合作，讓氮化硼單晶在銅上生長，作為保護(hù)二維半導(dǎo)體材料的通道，現(xiàn)階段無法說明量產(chǎn)時間，也有很多關(guān)鍵技術(shù)要突破，比如金屬接觸和元件優(yōu)化，可是確實對於將來電晶體尺寸再變小將有幫助。
將氮化硼轉(zhuǎn)移至矽晶圓上，藍(lán)色可見部分為支撐膜。
本文來源：自由時報
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普樂斯電子10年專注研制等離子清洗機(jī)，等離子清洗設(shè)備，等離子體清洗機(jī)，低溫等離子表面處理機(jī)，已通過ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認(rèn)證，為電子、半導(dǎo)體、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗，活化，刻蝕，涂覆的等離子表面處理解決方案，是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機(jī)廠家。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問，歡迎點擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
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