半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)巨頭工藝升級，國產(chǎn)等離子清洗機(jī)如何發(fā)展？
文章導(dǎo)讀：今年三星宣布的133萬億韓元投資，將用于增強自己在芯片設(shè)計（SystemLSI）、芯片制造（Foundry）業(yè)務(wù)上的競爭力；臺積電本身也在拓展業(yè)務(wù)，產(chǎn)品線已涵蓋了大部分的產(chǎn)品，同時持續(xù)深耕類似芯片領(lǐng)域。
三星半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一直都是其利潤支柱和技術(shù)基石，從三星創(chuàng)立開始韓國就鼎立支持三星的發(fā)展，助力其進(jìn)入存儲芯片、CMOS圖像傳感器的全球第一梯隊。此次三星這筆投資一定程度上體現(xiàn)了三星在芯片領(lǐng)域的野望，國產(chǎn)等離子清洗機(jī)在芯片制造等領(lǐng)域應(yīng)用非常廣泛，國產(chǎn)等離子清洗機(jī)制造商該如何解讀呢？
當(dāng)前存儲芯片的行情卻在下滑，從去年開始，內(nèi)存市場就持續(xù)走低。面對變化的市場需求和貿(mào)易環(huán)境以及終端市場的天花板，三星也欲強化內(nèi)存之外的半導(dǎo)體優(yōu)勢，擴(kuò)大營收規(guī)模。三星和臺積電的爭奪還在繼續(xù)，但是在7nm工藝上，臺積電已經(jīng)率先量產(chǎn)。接下來，臺積電明年就要量產(chǎn)6nm、5nm，另外3nm已在規(guī)劃之中。4月18日，在臺積電召開第一季度財報會議中，臺積電指出3nm技術(shù)已經(jīng)進(jìn)入全面開發(fā)的階段。
按照三星此前的計劃，三星于2018下半年投產(chǎn)7nm，同時5nm及以下的先進(jìn)制程也在規(guī)劃中。從最新制程量產(chǎn)的情況看，臺積電還是領(lǐng)先于三星。事實上，不論是臺積電還是三星，就地理位置而言，同在亞洲的技術(shù)俯沖帶上，面對的地區(qū)市場小。
如果說臺積電、中國臺灣地區(qū)是全球半導(dǎo)體的技術(shù)閥門，那么就亞洲來說，三星、韓國是半導(dǎo)體的另一扇門，交織在美國市場和中國市場之間。而三星和臺積電的爭奪戰(zhàn)，也將影響新的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)秩序。國產(chǎn)等離子清洗機(jī)的質(zhì)量目前也能滿足半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的部分需求，在后續(xù)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展中也將大有可為。制造商們還需緊盯行業(yè)發(fā)展，提升自身實力迎接行業(yè)的變化。
本文來源：21世紀(jì)經(jīng)濟(jì)報道
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