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普樂斯等離子清洗機(jī)助力中國大力發(fā)展半導(dǎo)體材料實(shí)現(xiàn)大國崛起!

返回列表 來源:中國半導(dǎo)體論壇 瀏覽: 發(fā)布日期:2021-10-20 14:26【
文章導(dǎo)讀:中國想要實(shí)現(xiàn)大國崛起之路,實(shí)現(xiàn)對于進(jìn)口半導(dǎo)體材料的國產(chǎn)替代,擺脫對于進(jìn)口的依賴迫在眉睫。盡管這可能需要用至少20年的時間追逐國際先進(jìn)水平,然而這是中國不得不面臨的必由之路。等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)已廣泛應(yīng)用,普樂斯將緊跟中國半導(dǎo)體材料的發(fā)展的步伐。
         據(jù)SEMI統(tǒng)計,2019年全球半導(dǎo)體材料市場銷售額超過521億美元,而中國大陸半導(dǎo)體材料銷售額增長最快,是全球第三大市場,占比16%左右。以晶圓制造材料為例,晶圓制造材料一般包括硅片、電子特氣、光掩模、光刻膠、拋光材料等。根據(jù)SEMI 2018年的數(shù)據(jù):
 
        全球硅片產(chǎn)值約114萬億美元;
 
        全球電子特氣產(chǎn)值約43億美元;
 
        全球光掩模產(chǎn)值約41億美元;
 
        全球光刻膠產(chǎn)值約18億美元;
 
        全球CMP拋光材料產(chǎn)值約21億美元;
 
        全球?yàn)R射靶材產(chǎn)值約14億美元。
 
        自19世紀(jì)80年代以來,全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)以歐美主導(dǎo)設(shè)計上游環(huán)節(jié)、東亞負(fù)責(zé)制造和封測等下游環(huán)節(jié),形成全球高度分工的體系。2018年,中美貿(mào)易戰(zhàn)點(diǎn)燃了中美科技層面競賽的戰(zhàn)火。然而中國過去對于半導(dǎo)體材料及設(shè)備嚴(yán)重依賴于進(jìn)口,國內(nèi)對半導(dǎo)體材料的依存度在60%以上,面臨著被卡脖子的風(fēng)險。此外,美國對于國內(nèi)半導(dǎo)體領(lǐng)先企業(yè)的打壓,也給中國敲響了警鐘:中國不能再像過去一樣完全依賴于進(jìn)口供應(yīng),而是應(yīng)該著力于發(fā)展本土半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體芯片的自給自足。
 
        中國想要實(shí)現(xiàn)大國崛起之路,實(shí)現(xiàn)對于進(jìn)口半導(dǎo)體材料的國產(chǎn)替代,擺脫對于進(jìn)口的依賴迫在眉睫。盡管這可能需要用至少20年的時間追逐國際先進(jìn)水平,然而這是中國不得不面臨的必由之路。等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)已廣泛應(yīng)用,普樂斯將緊跟中國半導(dǎo)體材料的發(fā)展的步伐。
 
        因此,國內(nèi)陸續(xù)發(fā)布支持半導(dǎo)體領(lǐng)域發(fā)展的多項(xiàng)重大政策,從財稅政策、投融資政策、研究開發(fā)政策、進(jìn)出口政策、人才政策、知識產(chǎn)權(quán)政策、市場應(yīng)用政策、國際合作政策等多個層面支持國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展。面臨由于新冠疫情造成的全球供應(yīng)短缺,國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)加速發(fā)展,對于半導(dǎo)體材料的需求進(jìn)一步增大,對于國產(chǎn)半導(dǎo)體材料企業(yè)來說是一個好消息。在國際嚴(yán)峻形勢和國內(nèi)政策推動下,國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展進(jìn)一步加速,國產(chǎn)替代進(jìn)程大步向前。不僅僅是半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,目前國內(nèi)半導(dǎo)體公司在存儲、射頻前端、毫米波、傳感器等重要領(lǐng)域已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了一定程度的國產(chǎn)替代。
 
        當(dāng)前,以氮化鎵、碳化硅等為代表的寬禁帶半導(dǎo)體(也稱第三代半導(dǎo)體),相比于傳統(tǒng)的硅材料,在高壓高頻方面有著性能的優(yōu)勢。寬禁帶半導(dǎo)體具有高擊穿電場、高飽和電子速度、高熱導(dǎo)率、高電子密度、高遷移率等優(yōu)點(diǎn),其中氮化鎵材料在高頻應(yīng)用方面占據(jù)優(yōu)勢,而碳化硅材料在高功率器件方面應(yīng)用較廣。隨著5G技術(shù)和汽車行業(yè)的興起,對于寬禁帶半導(dǎo)體的研發(fā)進(jìn)程日益加快;而伴隨著成本控制逐漸成熟,第三代半導(dǎo)體必將在未來大展拳腳。根據(jù)Yole的預(yù)測,至2023年,碳化硅功率器件將以31%的年復(fù)合增長率增長,市場規(guī)模超過15億美元;氮化鎵在低壓功率市場占比約68%,未來的市場規(guī)模將超過100億美元。寬禁帶半導(dǎo)體作為半導(dǎo)體領(lǐng)域的新興賽道,國內(nèi)研發(fā)起步較早,相比于傳統(tǒng)半導(dǎo)體技術(shù),和國際先進(jìn)水平的差距較小,完全有可能在較短的時間內(nèi)實(shí)現(xiàn)跨越和趕超。
 
        為加速國內(nèi)半導(dǎo)體材料及器件發(fā)展,促進(jìn)國內(nèi)半導(dǎo)體材料與器件領(lǐng)域的人員互動交流,推動我國半導(dǎo)體行業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展。儀器信息網(wǎng)將于2021年10月19-21日舉辦第二屆“半導(dǎo)體材料與器件研究及應(yīng)用”主題網(wǎng)絡(luò)研討會(i Conference on Research andApplication of Semiconductor Materials and Devices, iCSMD 2021)”,本次會議邀請到清華大學(xué)、北京大學(xué)、上海交通大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)、南京大學(xué)、華中科技大學(xué)、西安電子科技大學(xué)、吉林大學(xué)、山東大學(xué)、南方科技大學(xué)、暨南大學(xué)、重慶大學(xué)、河北工業(yè)大學(xué)、海南師范大學(xué)等國內(nèi)高校的知名學(xué)者,圍繞寬禁帶半導(dǎo)體/第三代半導(dǎo)體材料與器件、低維材料與器件、鈣鈦礦半導(dǎo)體與器件、半導(dǎo)體傳感器及其應(yīng)用等熱點(diǎn)議題分享精彩內(nèi)容,為國內(nèi)廣大半導(dǎo)體材料與器件研究、應(yīng)用及檢測的相關(guān)工作者提供一個突破時間地域限制的免費(fèi)學(xué)習(xí)平臺,讓大家足不出戶便能聆聽到相關(guān)專家的精彩報告。
 
普樂斯等離子清洗機(jī)將關(guān)注半導(dǎo)體材料與器件研究及應(yīng)用研討會

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        普樂斯電子12年專注研制等離子清洗機(jī),等離子體清洗機(jī),等離子清洗設(shè)備,常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理設(shè)備,大氣低溫等離子體表面處理系統(tǒng),大氣常壓收放卷等離子表面設(shè)備處理的國家高新技術(shù)企業(yè),普樂斯嚴(yán)格執(zhí)行ISO9001質(zhì)量體系管理,生產(chǎn)的等離子清洗機(jī)通過歐盟CE認(rèn)證,為電子、半導(dǎo)體、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗、活化、刻蝕、涂覆的等離子表面處理解決方案,是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機(jī)廠家。如果您想要了解關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中存在疑問,歡迎點(diǎn)擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢,或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009,普樂斯隨時恭候您的來電!

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    1)能有效去除大于3μm的顆粒
    2)不需要高純水和化學(xué)藥劑等,同時不需要后續(xù)烘干工藝
    3)設(shè)備維護(hù)簡單,只需進(jìn)行簡單的清洗和更換
    4)沿噴嘴線性均衡的超聲波使得工件橫向清洗性能保持一致
    5)非接觸式的清洗方式避免損壞工
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    真空等離子清洗機(jī)作為一種高效、無介質(zhì)的表面處理設(shè)備,具有廣泛的應(yīng)用前景。其工作原理基于等離子體在真空環(huán)境中產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)和物理效應(yīng),具有高效清洗、無介質(zhì)清洗、可選擇性清洗、表面改性和自動化操作等優(yōu)勢。

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    產(chǎn)品名稱:實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī) 小型真空等離子處理設(shè)備PLAUX-PR-10L

    ‌高效徹底‌:能夠深入微納米級孔隙中,徹底清除難以觸及的污染物。

    ‌環(huán)保節(jié)能‌:無需使用化學(xué)溶劑,減少廢水廢氣排放,符合綠色生產(chǎn)要求,且能耗低。

    ‌廣泛適用‌:適用于多種材料表面,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,不會對材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

    ‌工藝可控‌:通過調(diào)整工作氣體種類、壓力、功率等參數(shù),可精確控制清洗過程‌。


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