提前半年？ASML新一代光刻機(jī)預(yù)計(jì)明年年中出貨，普樂(lè)斯等離子清洗機(jī)
文章導(dǎo)讀：普樂(lè)斯等離子清洗機(jī)引用TechWeb、網(wǎng)易科技相應(yīng)內(nèi)容，據(jù)了解，ASML所正研發(fā)的第3款極紫外光刻機(jī)預(yù)計(jì)將于2021年中開始出貨。
普樂(lè)斯等離子清洗機(jī)引用TechWeb、網(wǎng)易科技相應(yīng)內(nèi)容，據(jù)了解，ASML所正研發(fā)的第3款極紫外光刻機(jī)預(yù)計(jì)將于2021年中開始出貨。
據(jù)了解，荷蘭ASML在其三季度的財(cái)報(bào)中指出，其新款光刻機(jī)預(yù)計(jì)將在2021年年中開始出貨的，新款光刻機(jī)的生產(chǎn)效率約將有18%的提升，在30mJ/cm2的曝光速度下每小時(shí)可處理的晶圓數(shù)可達(dá)160片。如果這款光刻機(jī)與ASML之前2019年的年報(bào)中提及的新光刻機(jī)為同一款的話，那么ASML的新款光刻機(jī)的出貨時(shí)間，就較原計(jì)劃提前約半年。
ASML的極紫外光刻機(jī)對(duì)先進(jìn)芯片制程工藝的重要性就不用多說(shuō)了，臺(tái)積電和三星這兩的7nm和5nm工藝，都必須依靠ASML的EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)新款EUV光刻機(jī)出貨后，也將由臺(tái)積電和三星先開始使用。
此外，ASML目前的兩款EUV光刻機(jī)，都是采用的波長(zhǎng)為13.5nm的極紫外光源，在20mJ/cm2的曝光速度下，其每小時(shí)的晶圓處理量分別能達(dá)125片和170片。
本文來(lái)源：TechWeb、網(wǎng)易科技
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普樂(lè)斯從2011年開始涉足半導(dǎo)體行業(yè)至今已有9年，專注研制等離子清洗機(jī)，等離子體清洗機(jī)，等離子清洗設(shè)備，常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理機(jī)，在光刻膠去除、打線即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工藝方面積累了較為豐富的等離子表面處理經(jīng)驗(yàn)，合作客戶接近20家，我們正努力成為半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的等離子表面處理工藝解決方案服務(wù)商。是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機(jī)廠家。等離子表面處理過(guò)的樣品包括：硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架等。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問(wèn)，歡迎點(diǎn)擊普樂(lè)斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國(guó)統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂(lè)斯恭候您的來(lái)電！
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